磁控溅射都溅射出来些什么

贴吧里看到一个问题，在这里跟大家讨论一下

问题：大佬们好，磁控溅射轰击金属靶材，例如Al、Sn等，能够轰击出相应的原子。但如果轰击的靶材是无机化合物，例如ZnGa2O4，轰击出来的是Zn,Ga,O原子还是ZnGa2O4分子呢？

关于磁控溅射都溅射出来些什么，我想着是一个很好的问题，首先我们老了解一下溅射的原理；

磁控溅射的解释更多的是通过高能粒子撞击动能转换的方式将靶材中的材料轰击出来。过程中溅射出的成分可能是单个分子，原子，原子团等。在溅射过程，如果能量足够，靶材里有易挥发，易分解的成分，则可能发生相应的反应。

定制的靶材中应该是以ZnGa2O4形式存在，不过像这种复合材料，目前主要的制作方法是热压烧结，因此组分中有ZnO、Ga2O3的成分是必然会存在的，化合物如果轰击能量足够，化学键断裂可能会出现反应后的产物也就是Zn、Ga、ZnO、Ga2O3、ZnGa2O4，可能都是会存在的。  
        另外看到有介绍在合金靶材中，溅射出的组分比例就并非定制靶材的比例。溅射系数高的优先被溅射出去，组分变化，同时热力学作用下表层扩散迁移，使表层达到稳定比例。得到的膜跟靶材的比例会有差异，所以就更加可能的结果就是上述物质大体都是存在的。
      这样想制备特定成分的膜层，就可以考虑在反应过程中添加反应气体等方式控制组分。

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